Product details

Origin:GER

Brand:LAM

Product ID: 853-015130-002

product description 

LAM Research Specific components or assemblies that deal with radio frequency (RF) 

power matching in semiconductor processing equipment. LAM Research is a leading 

supplier of wafer processing equipment and services to the semiconductor industry.

In plasma etching or deposition systems commonly used in semiconductor manufacturing,

 the RF Mini-Match will be a compact device designed to optimize the transfer of RF power

 from the generator to the plasma chamber. Its main function is to ensure efficient power

 delivery by matching the impedance of the RF generator to that of the load (plasma 

chamber and its contents).

Here are some things to know about the RF Mini-Match:

• Impedance matching: RF mini matching ensures that the impedance seen by the RF

  generator matches the impedance of the plasma cavity. This prevents power reflection,

  which can damage the generator or reduce the efficiency of power transfer to the plasma.

• Compact design: As the name suggests, the RF Mini-Match is designed to be small

  and efficient, making it easier to integrate into LAM Research's devices while minimizing

  the overall footprint.

• Tuning and control: RF mini-matching may include tunable elements, such as capacitors

  or inductors, that can be dynamically adjusted to maintain optimal impedance matching

  as process conditions change.

• Reliability and durability: Components used in semiconductor manufacturing equipment

  must be highly reliable and able to withstand harsh environments. The RF Mini-Match is

  designed and constructed to meet these needs.

Compatibility with LAM systems: The RF Mini-Match is designed to work with LAM Research's 

devices, ensuring compatibility and seamless integration.

For more information, please consult Guizhou Yuanmiao.

ЛБМ исследует конкретные компоненты или узлы, имеющие отношение к радиочастоте (RF)

Сверка мощности в полупроводниковом оборудовании. Я веду исследования

Поставщик оборудования для обработки ваферов и услуг для полупроводниковой промышленности.

В системах плазменной печати или осаждения, обычно используемых в производстве полупроводников,

Мини-матч рф будет компактным устройством, предназначенным для оптимизации передачи мощности рф

От генератора до плазменной камеры. Его основная функция заключается в обеспечении эффективной мощности

Подача газа путем приведения сопротивления рч-генератора в соответствие с нагрузкой (плазма)

Камера и ее содержимое.

Вот некоторые сведения о мини-матче рф:

Соответствие сопротивления: RF mini соответствие гарантирует, что сопротивление видели рф

Генератор совпадает с сопротивлением плазменной полости. Это препятствует отражению силы,

Которые могут повредить генератор или снизить эффективность передачи энергии в плазму.

Компактный дизайн: как следует из названия, RF мини-матч предназначен для малого размера

И эффективно, что облегчает интеграцию в устройства LAM Research при минимизации

Общая площадь территории.

Регулировка и контроль: мини-сверка RF может включать настраиваемые элементы, такие как конденсаторы

Или индукторы, которые могут быть динамически отрегулированы для поддержания оптимального соответствия сопротивления

По мере изменения технологических условий.

Надежность и долговечность: компоненты, используемые в полупроводниковом производственном оборудовании

Должна быть очень надежной и способной выдерживать суровые условия. Мини-матч в рф

Спроектированы и построены для удовлетворения этих потребностей.

Совместимость с LAM systems: RF Mini-Match предназначен для работы с LAM Research's

Устройства, обеспечивающие совместимость и бесперебойную интеграцию.

Для получения дополнительной информации, пожалуйста, проконсультируйтесь с гуйчжоу юанмяо.